用于增强待量测图案的可辨认度的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201010131817.4
IPC分类号：G03F1/14;G03F9/00;G01B15/00
申请日期：
2010-03-15
申请人：
中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

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著录项信息

专利名称	用于增强待量测图案的可辨认度的方法
申请号	CN201010131817.4	申请日期	2010-03-15
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2011-09-21	公开/公告号	CN102193307A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/14 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/14 （转入G03F 1/00-G03F 1/86）	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;1;4;;;G;0;3;F;9;/;0;0;;;G;0;1;B;1;5;/;0;0查看分类表>
申请人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张江路18号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司,中芯国际集成电路制造（北京）有限公司	当前权利人	中芯国际集成电路制造（上海）有限公司,中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
发明人	刘思南;郝静安
代理机构	北京市磐华律师事务所	代理人	董巍;顾珊

摘要

本发明提供一种针对关键尺寸扫描式电子显微镜的用于增强待量测图案的可辨认度的方法，所述方法包括以下步骤：选择辅助图形的形状并确定所述辅助图形的尺寸；在光罩上确定所述待量测图案所在的区块；在所述区块旁边定位所述辅助图形；在所述光罩上制作所述辅助图形；对所述光罩进行曝光。本发明提供的方法使得可以自动地对晶片上那些难以辨认的图案进行量测，增强图案的可辨认度，从而提高量测的准确度、降低停机时间和减少人力资源的浪费。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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