钼溅射靶材热等静压生产方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201310040795.4
IPC分类号：B22F3/04;B22F3/03;C23C14/34
申请日期：
2013-02-01
申请人：
基迈克材料科技（苏州）有限公司

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著录项信息

专利名称	钼溅射靶材热等静压生产方法
申请号	CN201310040795.4	申请日期	2013-02-01
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2013-05-01	公开/公告号	CN103071793A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B22F3/04 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B22 铸造；粉末冶金 B22F 金属粉末的加工；由金属粉末制造制品；金属粉末的制造（用粉末冶金法制造合金入C22C；）；金属粉末的专用装置或设备 B22F3/00 由金属粉末制造工件或制品，其特点为用压实或烧结的方法；所用的专用设备 B22F3/02 仅压实 B22F3/04 用流体压力	IPC分类号	B;2;2;F;3;/;0;4;;;B;2;2;F;3;/;0;3;;;C;2;3;C;1;4;/;3;4查看分类表>
申请人	基迈克材料科技（苏州）有限公司	申请人地址	江苏省苏州市吴江汾湖经济开发区汾杨路东侧变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	基迈克材料科技（苏州）有限公司	当前权利人	基迈克材料科技（苏州）有限公司
发明人	庄志杰;贾泽夏
代理机构	上海宏威知识产权代理有限公司	代理人	郭春远

摘要

钼溅射靶材热等静压生产方法，钼材经过适当的1300℃，100～110MPa热等静压处理，在致密度提高的基础上，可获得细小均匀的晶粒度为7级晶粒组织，其抗拉强度为530MPa，延伸率达25％，强度和韧性均得到提高。在高温高压的共同作用下，被加工件的各向均衡受压，靶材的致密度高、均匀性好、性能优异，同时具有生产周期短、工序少、能耗低、材料损耗小等特点。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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