等离子体处理装置和等离子体处理方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201110435856.8
IPC分类号：H01J37/32
申请日期：
2010-03-26
申请人：
东京毅力科创株式会社

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	等离子体处理装置和等离子体处理方法
申请号	CN201110435856.8	申请日期	2010-03-26
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2012-06-27	公开/公告号	CN102522304A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/32 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/32 充气放电管（放电加热的入H05B）	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人	东京毅力科创株式会社	申请人地址	日本,东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京毅力科创株式会社	当前权利人	东京毅力科创株式会社
发明人	舆水地盐;山泽阳平
代理机构	北京尚诚知识产权代理有限公司	代理人	龙淳

摘要

本发明提供等离子体处理装置和等离子体处理方法，其能够独立于电极温度地任意、简便且高效地对以覆盖被处理基板的周围的方式安装于下部电极的聚焦环进行加热。在该等离子体蚀刻装置中，在未向腔室(10)的处理空间供给处理气体时，不产生高频放电，等离子体生成用负载实质上不存在。在该情况下，聚焦环加热用负载代替等离子体生成用负载，成为对于高频电源(28)的实质上的负载，匹配器(32A)动作，使得该负载与高频电源(28)阻抗匹配。这里，从基座(12)经由聚焦环(36)和电介质(44)到达接地电位的筒状支承部件(16)的高频传送路径作为聚焦环加热用负载被利用。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供