基板处理装置、使用状况确认方法、以及不当使用防止方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200580027056.5
IPC分类号：H01L21/027;G05B19/418;G03F7/20;H01L21/02;G06F21/22
申请日期：
2005-08-10
申请人：
尼康股份有限公司;尼康制度股份有限公司

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著录项信息

专利名称	基板处理装置、使用状况确认方法、以及不当使用防止方法
申请号	CN200580027056.5	申请日期	2005-08-10
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2007-08-15	公开/公告号	CN101019207
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/027 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/02 半导体器件或其部件的制造或处理〔2，8〕 H01L21/027 未在H01L 21/18或H01L 21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜〔5〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;0;2;7;;;G;0;5;B;1;9;/;4;1;8;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;;;G;0;6;F;2;1;/;2;2查看分类表>
申请人	尼康股份有限公司;尼康制度股份有限公司	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	尼康股份有限公司,尼康制度股份有限公司	当前权利人	尼康股份有限公司,尼康制度股份有限公司
发明人	铃木博之;沖田晋一;山口正志
代理机构	北京中原华和知识产权代理有限责任公司	代理人	寿宁

摘要

能确认基板处理装置是否被不当使用，若有不当使用的事实时，能防止该不当使用。授权档案LF，是将授权资讯L予以加密的档案，授权资讯L包含对基板处理装置的特定使用者的使用条件。整合性确认程式P2，是确认以解密程式P1解密后的授权档案LF的内容，与从基板处理装置所得的装置资讯DI、网络资讯NI、及现在时刻CT的整合性，来确认有无不当使用的事实。若有不当使用时，根据整合性确认程式P2的资讯，由控制程式P3停止基板处理装置的动作，直到实施既定处置为止。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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