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簇射极板及采用该簇射极板的等离子体处理装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200680041735.2
  • IPC分类号:H01L21/31;H01L21/3065;C23C16/455
  • 申请日期:
    2006-11-07
  • 申请人:
    国立大学法人东北大学;东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称簇射极板及采用该簇射极板的等离子体处理装置
申请号CN200680041735.2申请日期2006-11-07
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-11-12公开/公告号CN101305451
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/31
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;1;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;6;5;;;C;2;3;C;1;6;/;4;5;5查看分类表>
申请人国立大学法人东北大学;东京毅力科创株式会社申请人地址
日本国宫城县;日本国宫城县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人国立大学法人东北大学,东京毅力科创株式会社当前权利人国立大学法人东北大学,东京毅力科创株式会社
发明人大见忠弘;松冈孝明
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人李贵亮
摘要
本发明提供一种等离子体处理用簇射极板,是由多个配管形成的等离子体处理用簇射极板(31),配管(31A3)由多孔质材料构件(44)和金属构件(41)构成,该多孔质材料构件(44)被沿着配管配置,对于原料气体具有规定的气孔率,朝向外侧呈凸状;该金属构件(41)与多孔质材料构件(44)对向配置,与多孔质材料构件(44)一起形成原料气体流路(43)。可以实现一种喷嘴构造,使原料气体呈扩散状喷出。

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