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使用空间上分开的注入器腔室进行的对膜的原子层沉积

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610023480.2
  • IPC分类号:C23C16/455
  • 申请日期:
    2016-01-14
  • 申请人:
    应用材料公司
著录项信息
专利名称使用空间上分开的注入器腔室进行的对膜的原子层沉积
申请号CN201610023480.2申请日期2016-01-14
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-08-03公开/公告号CN105821393A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C23C16/455IPC分类号C;2;3;C;1;6;/;4;5;5查看分类表>
申请人应用材料公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人应用材料公司当前权利人应用材料公司
发明人T·E·佐藤;E·纽曼
代理机构上海专利商标事务所有限公司代理人黄嵩泉
摘要
一种沉积膜的方法,所述方法包含以下步骤:在具有多个处理区域的处理腔室中的基板支撑件上定位多个基板,通过气幕使每一个处理区域与相邻的区域分开。在处理区域中的至少一个处理区域中交替向第一反应性气体、净化气体、第二反应性气体和净化气体的暴露以沉积膜。

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