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基板处理装置及基板处理方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200510120440.1
IPC分类号：G03F7/00;G03F7/20;G03F7/26
申请日期：
2005-11-10
申请人：
大日本网目版制造株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基板处理装置及基板处理方法
申请号	CN200510120440.1	申请日期	2005-11-10
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2006-05-17	公开/公告号	CN1773376
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;0;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;7;/;2;6查看分类表>
申请人	大日本网目版制造株式会社	申请人地址	日本京都府变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	斯克林半导体科技有限公司	当前权利人	斯克林半导体科技有限公司
发明人	金山幸司;久井章博;浅野彻;小林宽;奥村刚;安田周一;金冈雅;宫城聪;茂森和士
代理机构	隆天国际知识产权代理有限公司	代理人	高龙鑫;王玉双

摘要

本发明提供的基板处理装置具有分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置有曝光装置。接口模块具有含有2个干燥处理单元的干燥处理部和接口用搬送机构。在曝光装置中，在对基板实施了曝光处理后，基板通过接口用搬送机构被搬送到干燥处理部的干燥处理单元。在干燥处理部的干燥处理单元中，进行基板的洗涤和干燥。

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