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双金属镶嵌金属布线图案的形成方法和形成的布线图案

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200610121251.0
  • IPC分类号:H01L21/768;H01L23/522
  • 申请日期:
    2006-08-07
  • 申请人:
    三星电子株式会社
著录项信息
专利名称双金属镶嵌金属布线图案的形成方法和形成的布线图案
申请号CN200610121251.0申请日期2006-08-07
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2007-02-14公开/公告号CN1913128
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/768IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;7;6;8;;;H;0;1;L;2;3;/;5;2;2查看分类表>
申请人三星电子株式会社申请人地址
韩国京畿道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人三星电子株式会社当前权利人三星电子株式会社
发明人李秉周;申宪宗;姜熙晟
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人陶凤波
摘要
本发明公开了一种形成双金属镶嵌金属布线图案的方法,其包括在集成电路衬底上形成第一金属布线图案;以及在第一金属布线图案上形成蚀刻停止层。这些步骤之后是在蚀刻停止层上形成电绝缘层并在电绝缘层上形成金属间介电层的步骤。通过依次选择性蚀刻金属间介电层和电绝缘层,在其中界定暴露出蚀刻停止层的第一部分的开口。开口可以包括沟槽和从沟槽的底部向下延伸的通孔。在通孔的侧壁上并直接在蚀刻停止层的第一部分上形成第一阻挡金属层。从蚀刻停止层的第一部分选择性地去除部分第一阻挡金属层。接着通过以充分的时间选择性地去除蚀刻停止层的第一部分,暴露出部分第一金属布线图案。在开口中形成第二金属布线图案以完成双金属镶嵌结构。

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