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一种钐铁钴磷非晶薄膜及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011155927.4
  • IPC分类号:C25D3/56;C25D5/48;C25D7/00
  • 申请日期:
    2020-10-26
  • 申请人:
    中国计量大学;中国计量大学上虞高等研究院有限公司
著录项信息
专利名称一种钐铁钴磷非晶薄膜及其制备方法
申请号CN202011155927.4申请日期2020-10-26
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-03-12公开/公告号CN112481666A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C25D3/56IPC分类号C;2;5;D;3;/;5;6;;;C;2;5;D;5;/;4;8;;;C;2;5;D;7;/;0;0查看分类表>
申请人中国计量大学;中国计量大学上虞高等研究院有限公司申请人地址
浙江省杭州市下沙高教园区学源街258号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国计量大学,中国计量大学上虞高等研究院有限公司当前权利人中国计量大学,中国计量大学上虞高等研究院有限公司
发明人俞能君;李迎畅;杨婉琪;吴琼;泮敏翔;张朋越;葛洪良
代理机构杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙)代理人暂无
摘要
本发明公开了一种钐铁钴磷非晶薄膜,包含的元素为Sm、Fe、Co、P,其中各个元素的重量百分数的比值为SmFeCoP=xyza,5.0≤x≤35.0,55.0≤y≤80.0,0≤z≤30.0,0.1≤a≤2.0,x+y+z+a=100。本发明还公开了一种钐铁钴磷非晶薄膜的制备方法,包括(1)电极片活化处理;(2)电化学共沉积;(3)薄膜清洗。本发明能够实现Sm、Fe、Co三种元素的可控共沉积,薄膜元素分布均匀,而且本发明制备方法制得的非晶薄膜的饱和磁化强度较高,达到137emu/g。

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