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一种用于高转速的旋转真空传导装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110714867.3
  • IPC分类号:H01L21/683;H01L21/687;H01L21/67;F16L39/06
  • 申请日期:
    2021-06-25
  • 申请人:
    争丰半导体科技(苏州)有限公司
著录项信息
专利名称一种用于高转速的旋转真空传导装置
申请号CN202110714867.3申请日期2021-06-25
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-09-24公开/公告号CN113437011A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/683IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;8;3;;;H;0;1;L;2;1;/;6;8;7;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7;;;F;1;6;L;3;9;/;0;6查看分类表>
申请人争丰半导体科技(苏州)有限公司申请人地址
江苏省苏州市相城区相城经济技术开发区漕湖街道春兴路9号争丰产业园1号厂房 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人争丰半导体科技(苏州)有限公司当前权利人争丰半导体科技(苏州)有限公司
发明人戚孝峰
代理机构北京维正专利代理有限公司代理人孔凯凯
摘要
本申请涉及晶圆清洗的领域,尤其是一种用于高转速的旋转真空传导装置,解决了晶圆清洗过程中,水柱和高速气流的换向较麻烦,难以对晶圆整体进行全面清洁,影响晶圆的清洗效率和清洗效果的问题,其包括转轴,所述转轴沿中心轴开设有盲孔,所述转轴沿半径开设有多个通孔,所述盲孔与多个所述通孔相通,所述转轴外与多个所述通孔相应的位置绕所述转轴的中心轴转动设置有抽气腔壳,所述抽气腔壳与所述转轴间形成抽气腔,所述抽气腔壳开设有用于抽气的第一抽气孔。本申请具有方便晶圆的整体全面清洁的效果。

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