大功率半导体激光器列阵器件光束快轴压缩用圆柱透镜的制作方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200810118965.5
IPC分类号：G02F1/35;H01S5/40;H01S3/0941
申请日期：
2008-08-27
申请人：
中国科学院半导体研究所

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专利名称	大功率半导体激光器列阵器件光束快轴压缩用圆柱透镜的制作方法
申请号	CN200810118965.5	申请日期	2008-08-27
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2010-03-03	公开/公告号	CN101661205
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/35 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/35 非线性光学〔2，5〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;3;5;;;H;0;1;S;5;/;4;0;;;H;0;1;S;3;/;0;9;4;1查看分类表>
申请人	中国科学院半导体研究所	申请人地址	北京市海淀区清华东路甲35号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院半导体研究所	当前权利人	中国科学院半导体研究所
发明人	刘媛媛;李伟;马骁宇
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	周国城

摘要

本发明公开了一种列阵器件光束快轴压缩用圆柱透镜的制作方法，该方法包括：制作规格相同的一定长度的光纤段；对该光纤段的两端进行金属膜溅射；将两端溅射好金属膜的光纤段焊接在陶瓷段上，焊好后用去离子水清洗，然后超声清洗后烘干。本发明提供的这种列阵器件光束快轴压缩用圆柱透镜的制作方法，可靠性高，能够有效控制封装尺寸大小、封装精度、器件整体远场发散角等，进而能够满足列阵器件和叠层列阵器件压缩的要求。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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