去除或减少氧化物薄膜中表面颗粒的方法和专用抛光棒

发明专利无效专利

申请号：
CN02129536.0
IPC分类号：--
申请日期：
2002-09-12
申请人：
中国科学院物理研究所

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	去除或减少氧化物薄膜中表面颗粒的方法和专用抛光棒
申请号	CN02129536.0	申请日期	2002-09-12
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2004-03-17	公开/公告号	CN1482625
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	中国科学院物理研究所	申请人地址	北京市海淀区中关村南三街8号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院物理研究所	当前权利人	中国科学院物理研究所
发明人	何萌;周岳亮;谈国太;陈正豪;吕惠宾;杨国桢
代理机构	北京律诚同业知识产权代理有限公司	代理人	王凤华

摘要

本发明涉及一种去除或减少氧化物薄膜中表面颗粒的方法和专用抛光棒。该方法包括：分别将薄膜样品与抛光棒用丙酮、酒精进行超声清洗，然后将抛光棒垂直压在薄膜表面上，确保抛光面紧密、均匀的与薄膜表面接触，迅速移动抛光棒，将颗粒消除。重复次数越多，消除颗粒的效果越明显。为了确保薄膜的性能不变，将表面处理后的薄膜进行后退火处理，其条件可根据该膜制备时的工艺条件而改变。专用抛光棒包括手柄，一具有柔软的材料制作的表面光滑的底座，该底座垂直固定在手柄末端，底座的底面为抛光面。该方法工艺简单，重复性好，造价低廉，处理后的薄膜样品表面颗粒明显减少，性能保持不变，甚至更好。为制备出性能优良的微波器件打下良好的基础。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供