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一种半导体设备等离子腔体用电子匹配器

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201510622763.4
  • IPC分类号:H01J37/32;H05H1/46
  • 申请日期:
    2015-09-25
  • 申请人:
    沈阳拓荆科技有限公司
著录项信息
专利名称一种半导体设备等离子腔体用电子匹配器
申请号CN201510622763.4申请日期2015-09-25
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2017-04-05公开/公告号CN106558467A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/32IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;2;;;H;0;5;H;1;/;4;6查看分类表>
申请人沈阳拓荆科技有限公司申请人地址
辽宁省沈阳市浑南新区新源街1-1号三层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人沈阳拓荆科技有限公司当前权利人沈阳拓荆科技有限公司
发明人吕欣
代理机构沈阳维特专利商标事务所(普通合伙)代理人甄玉荃
摘要
一种半导体设备等离子腔体用电子匹配器,它包括N个固定电容。上述电容串联,并连接于射频电源与等离子体设备腔体之间,射频电源连接到一个固定电容的输入端;选择一固定电感,固定电感的一端接地,固定电感的另一端接到射频电源一侧,或者接到等离子体设备腔体一侧。所述射频电源与固定电容之间连接一系列继电器;所述固定电容与继电器至少两个。本发明设计科学、结构合理,所有电子元器件均为固定式,并且最大限度的利用每个元器件,易于控制,成本低。可以简单、可靠的实现等离子体设备的阻抗匹配。最大限度地降低设备的制造成本和维护成本。可广泛地应用在半导体设备技术领域中。

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