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曝光方法、曝光装置和物品制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510731077.0
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2015-11-02
  • 申请人:
    佳能株式会社
著录项信息
专利名称曝光方法、曝光装置和物品制造方法
申请号CN201510731077.0申请日期2015-11-02
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-05-11公开/公告号CN105573064A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人佳能株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人佳能株式会社当前权利人佳能株式会社
发明人籔伸彦
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人宿小猛
摘要
本发明涉及曝光方法、曝光装置和物品制造方法。该曝光方法包括通过以投影光学系统的第一光瞳面光照分布(第一分布)照射所述系统来执行曝光处理的第一步骤;在第一步骤之后,通过以与第一分布不同的第二光瞳面光照分布(第二分布)照射所述系统来执行曝光处理的第二步骤;相对于第一步骤中的成像性能,获得所述系统在第二分布的条件下的成像性能的改变量的改变量获得步骤;和通过使用所述改变量来获得用于在第二步骤中校正成像性能的校正量的校正量获得步骤,其中,在第二步骤中,通过使用所述校正量校正成像性能来执行曝光处理。

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