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抗蚀剂下层膜形成用组合物

发明专利有效专利

申请号：
CN201880045116.3
IPC分类号：G03F7/11;G03F7/20;H01L21/027
申请日期：
2018-08-14
申请人：
日产化学株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	抗蚀剂下层膜形成用组合物
申请号	CN201880045116.3	申请日期	2018-08-14
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2020-03-06	公开/公告号	CN110869852A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/11 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/004 感光材料（G03F 7/12，G03F 7/14优先）〔5〕 G03F7/09 以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层（印刷版的基片层一般入B41N）〔5〕 G03F7/11 具有覆盖层或中间层的，例如，（使感光乳剂固着于片基的）胶层〔5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;1;1;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	日产化学株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	日产化学株式会社	当前权利人	日产化学株式会社
发明人	绪方裕斗;臼井友辉;远藤雅久;岸冈高广
代理机构	北京市中咨律师事务所	代理人	马妮楠;段承恩

摘要

本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含具有下述式(1)所示的结构单元的共聚物和溶剂。(在上述式中，X表示碳原子数2～10的二价链状烃基，该二价链状烃基可以在主链具有至少1个硫原子或氧原子，此外可以具有至少1个羟基作为取代基，R表示碳原子数1～10的链状烃基，2个n分别表示0或1。)

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