一种制备高纯铜的装置与方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201010608453.4
IPC分类号：C22B15/14
申请日期：
2010-12-27
申请人：
大连理工大学

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种制备高纯铜的装置与方法
申请号	CN201010608453.4	申请日期	2010-12-27
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2011-04-27	公开/公告号	CN102031394A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C22B15/14 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C22 冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理 C22B 金属的生产或精炼（金属粉末或其悬浮物的制取入B22F 9/00；电解法或电泳法生产金属入C25）；原材料的预处理 C22B15/00 铜的提炼 C22B15/14 精炼	IPC分类号	C;2;2;B;1;5;/;1;4查看分类表>
申请人	大连理工大学	申请人地址	辽宁省大连市甘井子区凌工路2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	大连理工大学	当前权利人	大连理工大学
发明人	李廷举;付亚波;刘宁;陈洁;卢一平
代理机构	大连理工大学专利中心	代理人	梅洪玉

摘要

本发明公开了一种制备高纯铜的装置与方法，属于新材料制备技术领域。本发明制备高纯铜的装置包括电子束熔炼装置、电磁净化装置和半连续定向凝固铸锭装置。电子束熔炼、电磁净化和半连续定向凝固之间无缝连接，提高精炼效率。制备时，首先将阴极铜清洗后，去除暴露表面的主要杂质元素；然后经由电子束熔炼、电磁净化和直接定向凝固去除杂质；最后获得具有均匀柱状凝固组织的高纯铜铸锭。本发明所涉及的方法，具有工艺稳定、成本低廉、无污染、设备操作方便等优点，所制备的高纯铜铸锭组织均匀、无裂纹、无气孔，适用于制备溅射靶材、集成电路等部件材料。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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