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高压功率集成电路隔离结构

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201110112647.X
  • IPC分类号:H01L29/06;H01L27/092
  • 申请日期:
    2011-05-03
  • 申请人:
    浙江大学
著录项信息
专利名称高压功率集成电路隔离结构
申请号CN201110112647.X申请日期2011-05-03
法律状态驳回申报国家暂无
公开/公告日2011-08-31公开/公告号CN102169890A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/06IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;0;6;;;H;0;1;L;2;7;/;0;9;2查看分类表>
申请人浙江大学申请人地址
浙江省杭州市西湖区浙大路38号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江大学当前权利人浙江大学
发明人张世峰;韩雁;胡佳贤;张斌
代理机构杭州天勤知识产权代理有限公司代理人胡红娟
摘要
本发明公开了一种高压功率集成电路隔离结构,包括P型衬底,所述P型衬底上方设有埋氧层,埋氧层上方设有由2m+1个P型硅岛和2m个N型硅岛相互间隔排列构成的顶层硅膜,位于最中心的P型硅岛顶部设有重掺杂P+区,重掺杂P+区两侧的顶层硅膜表面覆有场氧层,其中m为整数。本发明隔离结构易于工艺实现,制造成本低,且消除了衬底对器件的影响,有效地提高了电路发生闩锁效应的难度,大大提高了电路的可靠性。

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