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具有用于冷却晶片的冷却路径的卡盘座

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710198615.X
  • IPC分类号:H01L21/683;H01L21/00
  • 申请日期:
    2004-12-22
  • 申请人:
    自适应等离子体技术公司
著录项信息
专利名称具有用于冷却晶片的冷却路径的卡盘座
申请号CN200710198615.X申请日期2004-12-22
法律状态撤回申报国家暂无
公开/公告日2008-12-24公开/公告号CN101330033
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/683IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;8;3;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人自适应等离子体技术公司申请人地址
韩国京畿道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人自适应等离子体技术公司当前权利人自适应等离子体技术公司
发明人朴熙龙;金珍泰;李圭夏;朴宽泰;吴尚瑛;张辉坤
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人李德山;杨生平
摘要
在此公开一种具有用于冷却晶片的冷却路径的卡盘座,包括:座体,用于支撑其上定位晶片的卡盘;以及冷却通道,用于冷却所述卡盘,所述冷却通道包括:弯曲部分,其在所述卡盘座的表面下从所述卡盘座的中心向外延伸,所述弯曲部分与所述卡盘相对,呈十字形状;以及圆形部分,连接到所述弯曲部分,所述圆形部分形成为围绕所述十字形部分的圆形。

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