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基于多次反射结构的高功率激光功率测量系统

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202120280931.7
  • IPC分类号:G01J1/04;G01J1/56
  • 申请日期:
    2021-02-01
  • 申请人:
    中国计量科学研究院
著录项信息
专利名称基于多次反射结构的高功率激光功率测量系统
申请号CN202120280931.7申请日期2021-02-01
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01J1/04IPC分类号G;0;1;J;1;/;0;4;;;G;0;1;J;1;/;5;6查看分类表>
申请人中国计量科学研究院申请人地址
北京市朝阳区北三环东路18号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国计量科学研究院当前权利人中国计量科学研究院
发明人孙青;林延东;马冲;张云鹏
代理机构北京轻创知识产权代理有限公司代理人冯瑛琪
摘要
本实用新型公开了基于多次反射结构的高功率激光功率测量系统,涉及激光测量技术领域。包括:测量反射镜、测量模块、第一反射镜、第二反射镜和第三反射镜,其中,测量反射镜的非反光面与测量模块的测量端连接,且测量模块的测量方向与测量反射镜的反光面垂直,第三反射镜的反光面与测量反射镜的反光面相对放置,第一反射镜用于改变入射的高功率激光的光路,第二反射镜用于改变出射的高功率激光的光路,使高功率激光经过测量反射镜和第三反射镜的反射后沿入射光路的方向射出。实用新型该系统的体积小、重量轻、响应速度快、无需水冷且可在线测量,测量准确度高且稳定性好,且可实现更低的激光功率分辨能力,大大降低测量装置成本。

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