一种分子印迹聚合物及其制备和应用

发明专利有效专利

申请号：
CN201611115303.3
IPC分类号：C08F222/14;C08F226/06;C08F210/14;B01J20/26;B01J20/30;B01D15/08
申请日期：
2016-12-07
申请人：
中国科学院大连化学物理研究所

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专利名称	一种分子印迹聚合物及其制备和应用
申请号	CN201611115303.3	申请日期	2016-12-07
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-06-15	公开/公告号	CN108164644A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C08F222/14 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 C08F 仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物（由低碳烃制造液态烃混合物，例如通过齐聚作用入C10G 50/00；发酵或使用酶的方法合成目标化合物或组合物或从外消旋混合物中分离旋光异构体入C12P；含有碳-碳不饱和键的单体接枝聚合到纤维、丝线、纱线、织物或用这些材料制成的纤维制品入D06M 14/00）〔2〕 C08F222/00 具有1个或更多的不饱和脂族基化合物的共聚物，每个不饱和脂族基只有1个碳-碳双键，至少有1个是以羧基为终端，并且在分子中至少含有另外1个羧基；它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈〔2〕 C08F222/10 酯〔2〕 C08F222/12 酚或饱和醇的〔2〕 C08F222/14 无游离羧酸基团的酯〔2〕	IPC分类号	C;0;8;F;2;2;2;/;1;4;;;C;0;8;F;2;2;6;/;0;6;;;C;0;8;F;2;1;0;/;1;4;;;B;0;1;J;2;0;/;2;6;;;B;0;1;J;2;0;/;3;0;;;B;0;1;D;1;5;/;0;8查看分类表>
申请人	中国科学院大连化学物理研究所	申请人地址	辽宁省大连市沙河口区中山路457-41号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院大连化学物理研究所	当前权利人	中国科学院大连化学物理研究所
发明人	陈吉平;彭俊钰;孙晓丽;王金成;黄超囡;孙昊
代理机构	沈阳科苑专利商标代理有限公司	代理人	马驰

摘要

本发明提供了一种通过加入位阻单体的来制备高选择性双酚类替代模板分子印迹聚合物的方法及聚合物的应用。材料按如下的步骤制备：将替代模板分子、交联剂、功能单体、位阻单体和引发剂溶于致孔剂中，形成均一的预聚合溶液，溶液在低温的条件下放置一段时间后，在50‑70℃下聚合反应20‑48h。聚合反应生成的白色块状聚合物经过研磨、筛分、沉降后，得到粒径为38‑63um的聚合物颗粒。将得到的颗粒使用甲醇/乙酸混合液或甲醇为提取剂，进行索氏提取，除去聚合物中的替代模板及未反应的物质，得到分子印迹聚合物。该发明加入的位阻单体增强了聚合物对双酚类的化合物特异选择性和富集能力，同时还提高材料对干扰物的抗干扰能力。

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