一种TiSiO复合光波导薄膜的制备方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201810336897.3
IPC分类号：C23C16/40;C23C16/505
申请日期：
2018-04-16
申请人：
扬州大学

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专利名称	一种TiSiO复合光波导薄膜的制备方法
申请号	CN201810336897.3	申请日期	2018-04-16
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2018-08-10	公开/公告号	CN108385088A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C16/40 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C16/00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积（CVD）工艺（反应溅射或真空蒸发入C23C 14/00）〔4〕 C23C16/22 以沉积金属材料以外之无机材料为特征的〔4〕 C23C16/30 沉积化合物、混合物或固溶体，例如硼化物、碳化物、氮化物〔4〕 C23C16/40 氧化物〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;6;/;4;0;;;C;2;3;C;1;6;/;5;0;5查看分类表>
申请人	扬州大学	申请人地址	江苏省扬州市开发区大学南路88号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	扬州大学	当前权利人	扬州大学
发明人	李大玉;代书雨;张徐;张章;肖金坤;张超
代理机构	南京苏科专利代理有限责任公司	代理人	沈良菊

摘要

本发明公开了集成光路领域内的一种TiSiO复合光波导薄膜的制备方法，包括如下步骤：按照Ti/Si为（3∶7）~（4∶1）将气态钛源和硅源通入PECVD装置，PECVD装置包括位于上方的等离子腔和下方的沉积室，等离子腔与射频电源一连接，产生平行耦合的横向感性射频电场，控制射频电场的射频电源一的功率为200~600W，控制沉积室内部压强为10‑8~10‑7Pa，沉积室底部设有衬底，将待电离气体通入等离子腔，待电离气体在电场作用下生成等离子体，等离子体与钛源和硅源在沉积室反应，在衬底上生成TiSiO复合光波导薄膜。本发明能够得到结构比较简单的TiSiO复合光波导薄膜，本光波导薄膜易实现与Si集成，而且材料体系的折射率能在较大的范围进行调节。

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