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一种薄膜层积设备

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201920020782.3
  • IPC分类号:B32B37/10;B32B38/00;B32B38/10
  • 申请日期:
    2019-01-07
  • 申请人:
    深圳顺络电子股份有限公司
著录项信息
专利名称一种薄膜层积设备
申请号CN201920020782.3申请日期2019-01-07
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B32B37/10IPC分类号B;3;2;B;3;7;/;1;0;;;B;3;2;B;3;8;/;0;0;;;B;3;2;B;3;8;/;1;0查看分类表>
申请人深圳顺络电子股份有限公司申请人地址
广东省深圳市龙华新区观澜街道大富苑工业区顺络观澜工业园 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人深圳顺络电子股份有限公司当前权利人深圳顺络电子股份有限公司
发明人田志飞;胡英俊;朱伟
代理机构深圳新创友知识产权代理有限公司代理人方艳平
摘要
本实用新型公开了一种薄膜层积设备,包括基座、薄膜移动机构、薄膜裁切机构、薄膜剥离机构、薄膜层积压合机构,其中所述薄膜移动机构、所述薄膜裁切机构、所述薄膜剥离机构、所述薄膜层积压合机构分别固定连接在所述基座上,所述薄膜移动机构用于驱动薄膜在所述基座上移动,所述薄膜裁切机构用于将所述薄膜裁切成预定尺寸,所述薄膜剥离机构用于将裁切成预定尺寸的薄膜从底膜上剥离并放在所述薄膜层积压合机构上,所述薄膜层积压合机构用于将多层从所述薄膜剥离机构上剥离的薄膜进行压合。本实用新型提出的薄膜层积设备,提高了生产效率,符合实际生产需求,满足现有产品的工艺要求,自动化生产降低人工成本。

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