印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201310211181.8
IPC分类号：B41N1/24;G02B5/02;H01L51/52
申请日期：
2013-05-30
申请人：
合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司

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著录项信息

专利名称	印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置
申请号	CN201310211181.8	申请日期	2013-05-30
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2013-10-02	公开/公告号	CN103332031A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B41N1/24 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B4 印刷 B41 印刷；排版机；打字机；模印机〔4〕 B41N 印版或箔（光敏材料入G03）；印刷机上印刷、着墨、润湿用的表面材料；上述所用表面的制备和保存 B41N1/00 印版或箔；及其所用材料 B41N1/24 模版；模版材料；其支架（用于办公或其他商业使用的模版设备入B41L 13/00）	IPC分类号	B;4;1;N;1;/;2;4;;;G;0;2;B;5;/;0;2;;;H;0;1;L;5;1;/;5;2查看分类表>
申请人	合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司	申请人地址	安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司	当前权利人	合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
发明人	郭远辉;秦锋;王辉;王春;张一三
代理机构	北京中博世达专利商标代理有限公司	代理人	申健

摘要

本发明提供了一种印刷版的制作方法、散射膜层及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，解决了现有的有机发光二极管显示屏的散射膜层中散射粒子不均匀，显示效果不佳的问题。一种印刷版的制作方法，印刷版上形成有多个凸出结构，凸出结构的最大宽度在1nm-1000nm之间，方法包括：在第一基板上制作最大宽度在1nm-1000nm之间的凹槽结构；在上述第一基板设置有凹槽结构的一面形成具有可固化塑形特性的材料的膜层；对具有可固化塑形特性的材料的膜层进行固化处理；将固化后的膜层剥离，在具有可固化塑形特性的材料的膜层表面形成最大宽度在1nm-1000nm之间的凸出结构。本发明适用于显示装置的设计和制造。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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