基于复合跟踪微分器实现自抗扰改进控制的方法、结构、装置及存储介质

发明专利有效专利

申请号：
CN202010973021.7
IPC分类号：G05B11/42
申请日期：
2020-09-16
申请人：
上海维宏电子科技股份有限公司;上海维宏智能技术有限公司;上海维宏自动化技术有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基于复合跟踪微分器实现自抗扰改进控制的方法、结构、装置及存储介质
申请号	CN202010973021.7	申请日期	2020-09-16
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-12-08	公开/公告号	CN112051730A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G05B11/42 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G05 控制；调节 G05B 一般的控制或调节系统；这种系统的功能单元；用于这种系统或单元的监视或测试装置（应用流体作用的一般流体压力执行器或系统入F15B；阀门本身入F16K；仅按机械特征区分的入G05G；传感元件见相应小类，例如G12B，G01、H01的小类；校正单元见相应的小类，例如H02K） G05B11/00 自动控制器（G05B 13/00优先） G05B11/01 电的 G05B11/36 具有为获得特定性能的装置，例如比例、积分、微分 G05B11/42 为获得比例和与时间有关的两个特性的，例如，比例积分（P.I.），比例积分微分（P.I.D.）	IPC分类号	G;0;5;B;1;1;/;4;2查看分类表>
申请人	上海维宏电子科技股份有限公司;上海维宏智能技术有限公司;上海维宏自动化技术有限公司	申请人地址	上海市闵行区颛兴东路1277弄29号四楼变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海维宏电子科技股份有限公司,上海维宏智能技术有限公司,上海维宏自动化技术有限公司	当前权利人	上海维宏电子科技股份有限公司,上海维宏智能技术有限公司,上海维宏自动化技术有限公司
发明人	郑之开;吴昊;陈豫;朱成坤
代理机构	上海智信专利代理有限公司	代理人	王洁;郑暄

摘要

本发明涉及一种激光切割随动控制系统中基于复合跟踪微分器实现自抗扰改进控制的方法，包括由第一跟踪微分器和第二跟踪微分器组成复合跟踪微分器，得到复合跟踪微分器的微分表达式；对复合跟踪微分器在零初始条件下进行拉斯变换，得到参考信号和跟踪输出传递函数；通过前馈补偿的方式引入零点，并通过修改系数补偿系数α对零点进行配置。本发明还涉及一种实现自抗扰改进的复合跟踪微分器结构。采用了本发明的激光切割随动控制系统中基于复合跟踪微分器实现自抗扰改进控制的方法、复合跟踪微分器结构、装置及计算机可读存储介质，相比较于常用的跟踪微分器，复合跟踪微分器能够更好地平衡跟踪相位滞后以及微分信号提出中噪声放大的问题。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供