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一种原子级清洁转移石墨烯的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201310362356.5
  • IPC分类号:C01B31/04
  • 申请日期:
    2013-08-19
  • 申请人:
    中国科学院化学研究所
著录项信息
专利名称一种原子级清洁转移石墨烯的方法
申请号CN201310362356.5申请日期2013-08-19
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2013-12-18公开/公告号CN103449418A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C01B31/04IPC分类号C;0;1;B;3;1;/;0;4查看分类表>
申请人中国科学院化学研究所申请人地址
北京市海淀区中关村北一街2号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院化学研究所当前权利人中国科学院化学研究所
发明人王栋;李景;万立骏
代理机构北京庆峰财智知识产权代理事务所(普通合伙)代理人刘元霞
摘要
本发明公开一种CVD石墨烯的高效转移和获取原子级清洁表面的方法,其包括如下步骤:在石墨烯/金属基底表面旋涂一层PMMA溶液,待其固化后通过(NH4)2S2O8溶液腐蚀除去金属基底,石墨烯/PMMA清洗后用目标基底捞起干燥,然后选用有机酸溶剂溶解PMMA层,最后通过高温退火方式进一步除去石墨烯表面残留PMMA,从而获取原子级清洁的石墨烯表面。本发明提供的石墨烯表面面积大,结构完整,缺陷和PMMA残留少。本发明所提供的方法PMMA残留极少,更容易获取原子级清洁的表面。该方法所获取的石墨烯适用于构筑电子器件如场效应晶体管、发光二极管、透明电极等,亦可用于表界面的理论研究。

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