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薄膜晶体管及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN02102827.3
  • IPC分类号:H01L29/768;H01L21/336
  • 申请日期:
    2002-01-21
  • 申请人:
    株式会社日立制作所
著录项信息
专利名称薄膜晶体管及其制造方法
申请号CN02102827.3申请日期2002-01-21
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2003-03-19公开/公告号CN1404160
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/768
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;6;8;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人株式会社日立制作所申请人地址
日本千叶县茂原市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人松下液晶显示器株式会社,株式会社日本显示器当前权利人松下液晶显示器株式会社,株式会社日本显示器
发明人堀越和彦;尾形洁;田村太久夫;中原美和子;大仓理;折付良二;中野泰;芝健夫
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人吴增勇;叶恺东
摘要
以廉价的非退火玻璃作为基片,在500℃以下的处理温度下对搀杂了硼(B)或磷(P)的多晶硅膜表面用臭氧进行氧化处理,在多晶硅表面形成4~20nm的硅氧化膜。由此,可以降低栅绝缘层/沟道层界面上的能级密度,从而可在非退火玻璃基片上制造特性变动小的薄膜晶体管。

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