像散测试掩膜版及光刻机台的像散检测方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202110428527.4
IPC分类号：G03F1/44;G03F7/20
申请日期：
2021-04-21
申请人：
华虹半导体（无锡）有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	像散测试掩膜版及光刻机台的像散检测方法
申请号	CN202110428527.4	申请日期	2021-04-21
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-08-03	公开/公告号	CN113204166A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/44 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/38 具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备〔2012.01〕 G03F1/44 测试或测量特征，例如网格图案、焦点监控、锯齿尺寸或缺口尺寸〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;4;4;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	华虹半导体（无锡）有限公司	申请人地址	江苏省无锡市新吴区新洲路30号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	华虹半导体（无锡）有限公司	当前权利人	华虹半导体（无锡）有限公司
发明人	栾会倩;吴长明;姚振海
代理机构	上海浦一知识产权代理有限公司	代理人	罗雅文

摘要

本申请公开了一种像散测试掩膜版及光刻机台的像散检测方法，涉及半导体制造领域。该光刻机台的像散检测方法包括在晶圆表面涂布光刻胶；利用像散测试掩膜版和待测光刻机台对所述晶圆进行曝光，像散测试掩膜版上布满像散测试标记，像散测试掩膜版的大小与待测光刻机台的最大曝光区域的大小相同；对曝光后的晶圆进行显影；利用套刻机台测量所述晶圆表面形成的测试图形的套刻值；根据套刻值与焦距变化量之间的对应关系，确定所述待测光刻机台对应不同曝光位置的像散值；解决了目前光刻机台的像散检测复杂的问题；达到了简便地测量光刻机台的像散的效果。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供