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用于制造改善污染的半导体器件的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201610726326.1
  • IPC分类号:H01L21/336;H01L29/78
  • 申请日期:
    2016-08-26
  • 申请人:
    台湾积体电路制造股份有限公司
著录项信息
专利名称用于制造改善污染的半导体器件的方法
申请号CN201610726326.1申请日期2016-08-26
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2017-03-08公开/公告号CN106486381A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/336IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;3;6;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8查看分类表>
申请人台湾积体电路制造股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人台湾积体电路制造股份有限公司当前权利人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人孙钟仁;张简旭珂;陈昆医;林俊泽
代理机构北京德恒律治知识产权代理有限公司代理人章社杲;李伟
摘要
本发明提供了一种半导体器件,包括衬底、两个栅极结构、层间介电层和材料层。衬底具有通过设置在衬底中的至少一个隔离结构而分离的至少两个器件区域。每个器件区域均包括设置在衬底中的两个掺杂区域。栅极结构分别设置在器件区域上。在每个器件区域中,掺杂区域分别设置在栅极结构的两个相对侧。层间介电层设置在衬底上方并外围地环绕栅极结构。层间介电层的顶部具有至少一个凹部。材料层填充至少一个凹部,并且具有与栅极结构的顶面位于相同平面的顶面。材料层的最厚部分的厚度与栅极结构的间距的比率在大约1/30至大约1/80的范围内。本发明还提供了一种形成半导体器件的方法。

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