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具有交叉流的外延腔室

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201080045712.5
  • IPC分类号:H01L21/205
  • 申请日期:
    2010-09-28
  • 申请人:
    应用材料公司
著录项信息
专利名称具有交叉流的外延腔室
申请号CN201080045712.5申请日期2010-09-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-07-04公开/公告号CN102549718A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/205IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;0;5查看分类表>
申请人应用材料公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人应用材料公司当前权利人应用材料公司
发明人B·拉马钱德兰;E·A·C·桑切斯;N·O·妙;K·J·宝蒂斯塔;H·S·居内贾;Z·朱
代理机构上海专利商标事务所有限公司代理人陆勍
摘要
在此提供用于处理基板的方法与设备。在一些实施例中,用于处理基板的设备包括:处理腔室,所述处理腔室具有配置于所述处理腔室中的基板支撑件,以在所述处理腔室内于期望的位置支撑基板的处理表面;第一进入通口,用于在第一方向提供所述基板的所述处理表面上方的第一处理气体;第二进入通口,用于在有别于所述第一方向的第二方向提供所述基板的所述处理表面上方的第二处理气体,其中在所述第一方向与所述第二方向之间测量到的相对于所述基板支撑件的中心轴的方位角最高达约145度;以及排放通口,被置于所述第一进入通口对面,以从所述处理腔室排放所述第一与所述第二处理气体。

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