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光刻方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201780044896.5
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2017-06-29
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称光刻方法
申请号CN201780044896.5申请日期2017-06-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-03-15公开/公告号CN109478025A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人A·B·珍宁科;L·J·A·凡鲍克霍文;S·H·范德穆伦;黄仰山;F·拉托雷;拜尔拉克·摩艾斯特;S·C·J·A·凯吉;E·范德布林克;C·H·斯豪滕;H·P·T·托尔斯马
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人暂无
摘要
一种光刻设备,包括支撑结构,所述支撑结构被构造成支撑图案形成装置和相关的表膜,所述图案形成装置能够在辐射束的横截面中赋予所述辐射束图案以形成图案化的辐射束;和投影系统,所述投影系统被配置成将所述图案化的辐射束投影至衬底的目标部分上,其中所述支撑结构位于壳体中并且其中压力传感器位于所述壳体中。

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