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用于晶带轴对准的方法和系统

发明专利有效专利

申请号：
CN202010168410.2
IPC分类号：G01N23/20008G01N23/20058H01J37/244H01J37/26H01J37/02
申请日期：
2020-03-11
申请人：
FEI公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于晶带轴对准的方法和系统
申请号	CN202010168410.2	申请日期	2020-03-11
法律状态	公开	申报国家	中国
公开/公告日	2020-09-22	公开/公告号	CN111693553A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N23/20008 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N23/14 （转入G01N 23/083-G01N 23/087， G01N 23/12） G01N23/20 利用材料辐射的衍射，例如，用于测试晶体结构；利用材料辐射的散射，例如测试非晶材料；利用材料辐射的反射〔1，2006.01，2018.01〕 G01N23/20008 分析仪零件结构，例如其特征在于X射线源、检测器或光学系统；其配件；样品制备（使用晶体的X射线单色仪G21K 1/06）〔2018.01〕	IPC分类号	G01N23/20008;G01N23/20058;H01J37/244;H01J37/26;H01J37/02查看分类表>
申请人	FEI公司	申请人地址	美国俄*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	FEI公司	当前权利人	FEI公司
发明人	钟祯新
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	张凌苗;陈岚

摘要

用于晶带轴对准的方法和系统。提供了用于将样品的晶带轴与入射束对准的方法和系统。作为一个实例，所述对准可基于晶带轴倾斜。所述晶带轴倾斜可基于在所述衍射图案中直射束和零阶劳厄带的位置来确定。所述直射束位置可基于以不同入射角获得的衍射图案来确定。

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