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在基板上形成装置的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201980082070.7
  • IPC分类号:H01L21/265;H01L21/67;H01L23/538
  • 申请日期:
    2019-12-06
  • 申请人:
    应用材料公司
著录项信息
专利名称在基板上形成装置的方法
申请号CN201980082070.7申请日期2019-12-06
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-07-30公开/公告号CN113196453A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/265IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;6;5;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7;;;H;0;1;L;2;3;/;5;3;8查看分类表>
申请人应用材料公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人应用材料公司当前权利人应用材料公司
发明人约瑟夫·C·奥尔森;卢多维克·戈代;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;摩根·埃文斯;傅晋欣
代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司代理人徐金国;赵静
摘要
本公开内容的多个实施方式涉及一种用于在基板上形成装置的系统和方法。例如,一种用于在基板上形成装置的方法可以包括从一个或多个离子束腔室投射一个或多个离子束,以在基板的第一表面上形成一个或多个装置,以及从一个或多个离子束腔室投射一个或多个离子束,以在基板的第二表面上形成一个或多个装置。在这些实施方式中,第一表面和第二表面在基板的相对侧上。因此,离子束可以在基板的两侧上形成装置。

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