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用于光刻套刻的划片槽结构

发明专利无效专利

申请号：
CN200410017898.X
IPC分类号：G03F7/20
申请日期：
2004-04-23
申请人：
上海华虹NEC电子有限公司

基础信息

权利要求

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于光刻套刻的划片槽结构
申请号	CN200410017898.X	申请日期	2004-04-23
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日	2005-11-02	公开/公告号	CN1690859
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/20 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕 G03F7/20 曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B 27/00）〔4〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	上海华虹NEC电子有限公司	申请人地址	上海浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海华虹宏力半导体制造有限公司	当前权利人	上海华虹宏力半导体制造有限公司
发明人	田明;邵春;倪淋云
代理机构	上海浦一知识产权代理有限公司	代理人	刘清富

摘要

本发明有关一种用于光刻套刻的划片槽结构，形成于一个曝光点的四周，光刻套刻的图形标记呈风车形状设置于曝光点四周，所述风车形状是指光刻套刻图形顺次设置于曝光点四个边周围的50um的空间内。由于分散设置，划片槽内的光刻图形宽度较小。本发明使用于半导体器件的制作过程中，特别是在划片槽上设置光刻套刻图形的制作过程中。

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