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用于光刻套刻的划片槽结构

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200410017898.X
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2004-04-23
  • 申请人:
    上海华虹NEC电子有限公司
著录项信息
专利名称用于光刻套刻的划片槽结构
申请号CN200410017898.X申请日期2004-04-23
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日2005-11-02公开/公告号CN1690859
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人上海华虹NEC电子有限公司申请人地址
上海浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司当前权利人上海华虹宏力半导体制造有限公司
发明人田明;邵春;倪淋云
代理机构上海浦一知识产权代理有限公司代理人刘清富
摘要
本发明有关一种用于光刻套刻的划片槽结构,形成于一个曝光点的四周,光刻套刻的图形标记呈风车形状设置于曝光点四周,所述风车形状是指光刻套刻图形顺次设置于曝光点四个边周围的50um的空间内。由于分散设置,划片槽内的光刻图形宽度较小。本发明使用于半导体器件的制作过程中,特别是在划片槽上设置光刻套刻图形的制作过程中。

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