一种晶片刷洗装置及晶体加工设备

实用新型专利有效专利

申请号：
CN202120008274.0
IPC分类号：B08B1/02;B08B13/00
申请日期：
2021-01-04
申请人：
湖南三安半导体有限责任公司

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著录项信息

专利名称	一种晶片刷洗装置及晶体加工设备
申请号	CN202120008274.0	申请日期	2021-01-04
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B08B1/02 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B08 清洁 B08B 一般清洁；一般污垢的防除（刷子入A46；家庭或类似清洁装置入A47L；颗粒从液体或气体中分离入B01D；固体分离入B03，B07；一般对表面喷射或涂敷液体或其他流体材料入B05；用于输送机的清洗装置入B65G 45/10；对瓶子同时进行清洗、灌注和封装的入B67C 7/00；一般腐蚀或积垢的防止入C23；街道、永久性道路、海滨或陆地的清洗入E01H；专门用于游泳池或仿海滨浴场浅水池或池子的部件、零件或辅助设备清洁的入E04H 4/16；防止或清除静电荷入H05F） B08B1/00 利用工具，刷子或类似工具的清洁方法（B08B 3/12，B08B 6/00，B08B 9/00优先）〔2〕 B08B1/02 运动中工件的清洁，如在传送装置上的成卷织物或物品	IPC分类号	B;0;8;B;1;/;0;2;;;B;0;8;B;1;3;/;0;0查看分类表>
申请人	湖南三安半导体有限责任公司	申请人地址	湖南省长沙市高新开发区长沙岳麓西大道2450号环创园B1栋2405房变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	湖南三安半导体有限责任公司	当前权利人	湖南三安半导体有限责任公司
发明人	叶智荃;张洁;林武庆;陈文鹏
代理机构	北京超凡宏宇专利代理事务所（特殊普通合伙）	代理人	冯洁

摘要

本实用新型提供了一种晶片刷洗装置及晶体加工设备，涉及晶片加工技术领域。该晶片刷洗装置包括晶片载台和刷洗组件。晶片载台包括转动杆和真空吸盘。真空吸盘用于吸附晶片，真空吸盘设置在转动杆上。刷洗组件包括驱动组件、第一刷洗辊和第二刷洗辊。第一刷洗辊和第二刷洗辊相互平行且间隔设置。驱动组件配置成驱动第一刷洗辊和第二刷洗辊沿相反的方向转动。驱动组件设置在晶片载台的一侧，以便真空吸盘上的晶片伸入第一刷洗辊和第二刷洗辊之间。本实用新型还提供了一种晶体加工设备，其采用了上述的晶片刷洗装置。本实用新型提供的晶片刷洗装置及晶体加工设备结构简单，清洗效果良好，降低抛光时造成的刮伤率。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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