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利用N2O在碳化硅层上制造氧化物层的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN01816726.8
  • IPC分类号:H01L21/316;H01L21/469;H01L27/04;H01L29/24
  • 申请日期:
    2001-10-01
  • 申请人:
    克里公司
著录项信息
专利名称利用N2O在碳化硅层上制造氧化物层的方法
申请号CN01816726.8申请日期2001-10-01
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2004-12-01公开/公告号CN1552092
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/316
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;1;6;;;H;0;1;L;2;1;/;4;6;9;;;H;0;1;L;2;7;/;0;4;;;H;0;1;L;2;9;/;2;4查看分类表>
申请人克里公司申请人地址
美国北卡罗来纳州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人克里公司当前权利人克里公司
发明人L·利普金;M·K·达斯;J·W·帕尔穆尔
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人肖春京;黄力行
摘要
通过在N2O环境中氧化碳化硅或者在N2O环境中退火碳化硅层上的氧化物层中的至少一种方式来形成氧化物层,提供在碳化硅层上制造氧化物层的方法。最好在氧化或退火期间提供N2O的预定温度分布和预定流速分布。预定温度分布和/或预定流速分布可以是恒定的或可变的,可以包含到稳定状态条件的斜坡。选择预定温度分布和/或预定流速分布,以便用SiC的导带附近的能量降低氧化物/碳化硅界面的界面态。

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