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集成电路装置及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610833846.2
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2016-09-20
  • 申请人:
    三星电子株式会社
著录项信息
专利名称集成电路装置及其制造方法
申请号CN201610833846.2申请日期2016-09-20
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2017-03-29公开/公告号CN106549017A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人三星电子株式会社申请人地址
韩国京畿道水原市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人三星电子株式会社当前权利人三星电子株式会社
发明人林夏珍;朴起宽;金元洪
代理机构北京铭硕知识产权代理有限公司代理人邱玲;刘灿强
摘要
提供了集成电路装置及其制造方法。所述集成电路装置包括:第一栅极堆叠件,形成在第一高介电层上并包括第一含逸出功调节金属结构;第二栅极堆叠件,形成在第二高介电层上并包括具有比第一含逸出功调节金属结构的氧含量大的氧含量的第二含逸出功调节金属结构。

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