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用于多栅极晶体管的装置和方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201210558875.4
  • IPC分类号:H01L29/04;H01L29/78;H01L21/336
  • 申请日期:
    2012-12-20
  • 申请人:
    台湾积体电路制造股份有限公司
著录项信息
专利名称用于多栅极晶体管的装置和方法
申请号CN201210558875.4申请日期2012-12-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2014-03-12公开/公告号CN103633115A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/04IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;0;4;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;1;/;3;3;6查看分类表>
申请人台湾积体电路制造股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人台湾积体电路制造股份有限公司当前权利人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人乔治斯·威廉提斯
代理机构北京德恒律治知识产权代理有限公司代理人章社杲;孙征
摘要
本发明公开了用于多栅极晶体管的装置和装置,其中,该装置包括具有第一晶体取向的衬底和有源区域,有源区域的上部具有第二晶体取向并且有源区域的上部在两侧被栅极结构环绕。该装置还包括被隔离区域围绕的沟槽,有源区域的上部位于隔离区域的顶面之上。

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