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半导体结构的检测方法及其检测装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910837420.8
  • IPC分类号:H01L21/66;H01L21/67;G06T7/00;G06T7/13
  • 申请日期:
    2019-09-05
  • 申请人:
    长江存储科技有限责任公司
著录项信息
专利名称半导体结构的检测方法及其检测装置
申请号CN201910837420.8申请日期2019-09-05
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-01-14公开/公告号CN110690133A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/66IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;6;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7;;;G;0;6;T;7;/;0;0;;;G;0;6;T;7;/;1;3查看分类表>
申请人长江存储科技有限责任公司申请人地址
湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人长江存储科技有限责任公司当前权利人长江存储科技有限责任公司
发明人魏强民;卢世峰;夏志良
代理机构北京成创同维知识产权代理有限公司代理人蔡纯;冯丽欣
摘要
本申请公开了一种半导体结构的检测方法及其检测装置。该检测方法包括建立扭曲值与至少一个电学性能参数之间的关系对照表;获取透射电子显微镜输出的半导体结构的剖面图像,包括至少一个孔的截面图形,截面图形所在平面垂直于孔的轴向;识别孔的多个边界点,获得多个边界点对应的多个边界坐标;根据多个边界坐标进行椭圆的数值拟合,并获得椭圆的长轴与短轴;计算长轴与短轴的差值,将差值作为孔的扭曲值;以及根据关系对照表和孔的扭曲值,判断孔对应的电学性能参数是否满足合理范围。该检测方法将每个孔的长轴与短轴差值作为孔的扭曲程度的表征参数,从而量化了孔的扭曲程度,最终达到量化分析扭曲程度对电学性能影响的目的。

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