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翻面芯片以焊蜡球及焊蜡柱加层次性之下层填充结合在基底上

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN02116568.8
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2002-04-09
  • 申请人:
    林大成
著录项信息
专利名称翻面芯片以焊蜡球及焊蜡柱加层次性之下层填充结合在基底上
申请号CN02116568.8申请日期2002-04-09
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2003-10-22公开/公告号CN1450616
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人林大成申请人地址
台湾省台北市北投温泉路58巷9-3号1楼 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人林大成当前权利人林大成
发明人林大成
代理机构北京维澳专利代理有限公司代理人王瑛
摘要
本发明公开了一个把具有多个输入/输出电极的集成电路圆片利用一个翻面芯片包装程序而和基底接合的改良方法。此方法包含以下步骤:1.在该基底上牢固地放置多个焊接装置,每个焊接装置和在该集成电路以便上的该输入/输出电极的位置相对应以便焊接并合该翻面芯片相接合;2.将该集成电路圆片翻转,并将每个集成电路的翻面芯片垫和一个焊接装置对准;以及3.把该集成电路装在该基底上以便把每个该输入/输出电极放在相对应的焊接装置上并加以一个回流温度以便把该集成电路圆片和该基底相焊接。

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