平面基板的处理装置

发明专利无效专利

申请号：
CN200880024180.X
IPC分类号：H01J37/32;H01L21/677
申请日期：
2008-04-28
申请人：
莱博德光学有限责任公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	平面基板的处理装置
申请号	CN200880024180.X	申请日期	2008-04-28
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日	2010-06-16	公开/公告号	CN101743610A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/32 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/32 充气放电管（放电加热的入H05B）	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;3;2;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7;7查看分类表>
申请人	莱博德光学有限责任公司	申请人地址	德国阿尔策瑙变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	莱博德光学有限责任公司	当前权利人	莱博德光学有限责任公司
发明人	M·格尔斯勒尔;T·默茨;M·罗德;R·贝克曼
代理机构	北京泛华伟业知识产权代理有限公司	代理人	王勇

摘要

本发明涉及一种用于处理平面基板的反应器，其具有真空室(11)、处理腔(9)，设置第一电极(5)和对电极(7)以用于产生离子体和形成该处理腔的两对置的壁，以及将气态材料引入(19，23，25)处理腔和从处理腔排出的装置，其中该基板(3)可由对电极接受。还具有对真空室的加料和排料口和用于改变电极间相对间距的装置(41，43)，其中第一个较大的间距是在装入处理腔或从处理腔卸出时设定，第二个较小的间距在实施处理时设定，和/或设置与对电极相关联的用于接受基板的装置，该装置如此构成，即该基板至少在进行处理时，以其待处理表面朝下而相对垂直线成0°-90°之间的某一角度α配置，该角α的值优选为1°、3°、5°、7°、9°、11°、13°、15°、17°、20°、25°、30°、40°、45°。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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