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一种应用于工业硅冶炼生产的复合还原剂的制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510704636.9
  • IPC分类号:C01B33/025
  • 申请日期:
    2015-10-27
  • 申请人:
    昆明理工大学
著录项信息
专利名称一种应用于工业硅冶炼生产的复合还原剂的制备方法
申请号CN201510704636.9申请日期2015-10-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2016-02-17公开/公告号CN105329897A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C01B33/025IPC分类号C;0;1;B;3;3;/;0;2;5查看分类表>
申请人昆明理工大学申请人地址
云南省昆明市五华区学府路253号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人昆明理工大学当前权利人昆明理工大学
发明人马文会;陈正杰;伍继君;魏奎先;董艳奇;杨兴卫;雷云;李绍元;谢克强;杨斌;戴永年
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明涉及一种应用于工业硅冶炼生产的复合还原剂的制备方法,属于有色金属冶炼技术领域。石油焦物料的粒度配比:粒径为0.1mm以下的石油焦占比60~75wt%,粒径0.1mm以上的占25~40wt%;无烟煤/烟煤物料的粒度配比:粒径为0.15~0.3mm配比占55~75%,0.15mm以下粒径配比占25~45%;木炭粉末和生物质炭/半焦按任意比例混合得到炭粉混合物料,炭粉混合物料粒度配比:0.075mm以下粒径配比占75~90%,0.075mm以上粒径配比占10~25%;将配置好的石油焦物料、无烟煤/烟煤物料、炭粉混合物料混合均匀得到混合料,将混合料添加有机粘接剂、添加剂、水搅拌均匀,然后制备成球团,烘干后制备得到复合还原剂。该复合还原剂具有固定碳含量高、化学反应活性高、灰份含量及其挥发份含量低等优点。

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