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高铊粗镉的真空冶炼方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200510011050.0
  • IPC分类号:C22B9/04;C22B17/00
  • 申请日期:
    2005-10-08
  • 申请人:
    昆明理工大学
著录项信息
专利名称高铊粗镉的真空冶炼方法
申请号CN200510011050.0申请日期2005-10-08
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2006-03-29公开/公告号CN1752233
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C22B9/04IPC分类号C;2;2;B;9;/;0;4;;;C;2;2;B;1;7;/;0;0查看分类表>
申请人昆明理工大学申请人地址
云南省昆明市学府路253号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人昆明理工大学当前权利人昆明理工大学
发明人杨斌;戴永年;杨部正;刘永成;刘大春;马文会;唐万启;陈为亮;李伟宏;徐宝强;姚耀春;周晓奎
代理机构昆明慧翔专利事务所代理人程韵波
摘要
本发明涉及一种高铊粗镉的真空冶炼方法,采用含量为0.1~5wt%铊的粗镉为原料,熔融状态的原料进入真空炉中,控制真空度为1~10Pa,温度为380~460℃,保持真空度和温度不变,冶炼时间30~90min,使镉在真空低压条件下挥发,铊不挥发,可以使镉中铊的含量降到0.0015~0.002wt%,得到纯度大于99.99%的镉,达到精镉的要求。具有工艺流程简单、成本低、对环境污染小的特点。

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