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电解铜箔制造装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201721919502.X
  • IPC分类号:B26D7/18
  • 申请日期:
    2017-12-29
  • 申请人:
    KCF技术有限公司
著录项信息
专利名称电解铜箔制造装置
申请号CN201721919502.X申请日期2017-12-29
法律状态暂无申报国家暂无
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B26D7/18IPC分类号B;2;6;D;7;/;1;8查看分类表>
申请人KCF技术有限公司申请人地址
韩国全罗北道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人SK纳力世有限公司当前权利人SK纳力世有限公司
发明人金相裕
代理机构隆天知识产权代理有限公司代理人向勇
摘要
本实用新型涉及一种电解铜箔制造装置,其特征在于,包括:卷取部,用于卷绕铜箔;第一切割部,将从阴极部和阳极部搬运的搬运铜箔切割为卷绕于所述卷取部的卷取铜箔和从所述卷取铜箔分离的分离铜箔;导向部,引导所述卷取铜箔,使得所述卷取铜箔被搬运至所述卷取部侧;以及第一阻挡部,用于阻挡在所述第一切割部切割所述搬运铜箔的过程中所产生的铜屑向所述卷取铜箔侧移动,所述第一阻挡部阻挡所述第一切割部和所述卷取部之间的至少一部分。

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