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一种新型抗溶剂猝灭的近红外二区染料、及其制备方法和应用

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110816673.4
  • IPC分类号:C07D215/12;C09K11/06;C09B23/10;G01N21/64
  • 申请日期:
    2021-07-20
  • 申请人:
    华东理工大学
著录项信息
专利名称一种新型抗溶剂猝灭的近红外二区染料、及其制备方法和应用
申请号CN202110816673.4申请日期2021-07-20
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-11-23公开/公告号CN113683562A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C07D215/12IPC分类号C;0;7;D;2;1;5;/;1;2;;;C;0;9;K;1;1;/;0;6;;;C;0;9;B;2;3;/;1;0;;;G;0;1;N;2;1;/;6;4查看分类表>
申请人华东理工大学申请人地址
上海市徐汇区梅陇路130号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华东理工大学当前权利人华东理工大学
发明人郭志前;吴梦兰;赵紫君;张辽;张玉涛;李娟;章旖烟;周业坤;朱为宏
代理机构上海顺华专利代理有限责任公司代理人顾兰芳
摘要
本发明提供了一种新型抗溶剂猝灭的近红外二区染料、及其制备方法和应用,是一类新型抗溶剂猝灭的含氮杂环的NIR‑II染料。实验表明本发明的近红外二区染料具有水溶性优异,波长长,抗溶剂猝灭,光稳定性优良,穿透深度深以及蛋白质增强荧光发射等特点,通过尾静脉注射到小鼠中,可以看清小鼠全身的血管及肝脏。此外,染料的结构易于修饰,可以连接多种靶向基团和检测基团,应用范围广泛。本发明结构为式Ⅰ所示:

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