用于激光致等离子体EUV光源的气体管理系统

发明专利有效专利

申请号：
CN200880105195.9
IPC分类号：G21G4/00
申请日期：
2008-08-15
申请人：
西默股份有限公司

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专利名称	用于激光致等离子体EUV光源的气体管理系统
申请号	CN200880105195.9	申请日期	2008-08-15
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2010-07-28	公开/公告号	CN101790764A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G21G4/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G21 核物理；核工程 G21G 化学元素的转变；放射源〔2〕 G21G4/00 放射源〔2〕	IPC分类号	G;2;1;G;4;/;0;0查看分类表>
申请人	西默股份有限公司	申请人地址	荷兰维德霍温变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML,荷兰有限公司	当前权利人	ASML,荷兰有限公司
发明人	A·N·贝卡诺弗;A·I·叶尔绍夫;I·V·福缅科夫;D·C·勃兰特
代理机构	上海专利商标事务所有限公司	代理人	刘佳;袁逸

摘要

本文记载设备及其相应使用方法，该设备可包括界定闭环流体路径的密封结构以及在等离子体场所产生等离子体的系统，例如激光致等离子体系统，其中等离子体场所可与流体路径流体连通。对该设备而言，可将气体设置在可包含离子止动缓冲气和/或腐蚀剂的密封结构中。可提供泵以强制气体通过闭环流体路径。可提供从在流体路径中的流动的气体去除热量的一个或多个热交换器。在一些配置中，可使用过滤器从在流体路径中流动的气体中去除至少一部分靶核素。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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