聚酰亚胺类微孔分离膜的制备方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200710039945.4
IPC分类号：B01D71/46;B01D67/00
申请日期：
2007-04-25
申请人：
上海大学

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著录项信息

专利名称	聚酰亚胺类微孔分离膜的制备方法
申请号	CN200710039945.4	申请日期	2007-04-25
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2007-10-17	公开/公告号	CN101053786
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B01D71/46 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B01 一般的物理或化学的方法或装置 B01D 分离（用湿法从固体中分离固体入B03B、B03D，用风力跳汰机或摇床入B03B，用其他干法入B07；固体物料从固体物料或流体中的磁或静电分离，利用高压电场的分离入B03C；离心机、涡旋装置入B04B；涡旋装置入B04C；用于从含液物料中挤出液体的压力机本身入B30B 9/02）〔5〕 B01D71/00 以材料为特征的用于分离工艺或设备的半透膜；其专用制备方法〔5〕 B01D71/06 有机材料〔5〕 B01D71/46 环氧树脂〔5〕	IPC分类号	B;0;1;D;7;1;/;4;6;;;B;0;1;D;6;7;/;0;0查看分类表>
申请人	上海大学	申请人地址	上海市宝山区上大路99号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海大学	当前权利人	上海大学
发明人	周瑞敏;吴新锋;郝旭峰;周菲;王智涛;贵舜延;邓邦俊
代理机构	上海上大专利事务所（普通合伙）	代理人	顾勇华

摘要

本发明涉及一种用电子束辐照剂量聚酰亚胺类微孔分离膜的方法，属辐射化学及高分子薄膜加工处理技为领域。本发明方法以各种单体聚合而成的聚酰亚胺类薄膜为主要膜材料，在其上覆盖好具有微孔图案的金属模板，采用常规电子加速器所产生的高能电子束进行辐照；其辐照剂量为600～1200KGy；然后将其浸入由H2SO4和K2Cr2O7组成的混合蚀刻溶液中，其中H2SO4的浓度为6～10mol/L，K2Cr2O7的浓度为0.1～0.3mol/L；在60℃～90℃温度下进行蚀刻，控制蚀刻反应时间为5～10小时；最后清洗、干燥，最终得到图案排列规整、孔径尺寸一致的高分子聚酰亚胺类微孔分离膜。

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