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可提高光效的LED外延片及其生长方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201610580873.3
  • IPC分类号:H01L33/00;H01L33/06;H01L33/12
  • 申请日期:
    2016-07-21
  • 申请人:
    湘能华磊光电股份有限公司
著录项信息
专利名称可提高光效的LED外延片及其生长方法
申请号CN201610580873.3申请日期2016-07-21
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2016-11-16公开/公告号CN106129193A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L33/00IPC分类号H;0;1;L;3;3;/;0;0;;;H;0;1;L;3;3;/;0;6;;;H;0;1;L;3;3;/;1;2查看分类表>
申请人湘能华磊光电股份有限公司申请人地址
湖南省郴州市白露塘有色金属产业园 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人湘能华磊光电股份有限公司当前权利人湘能华磊光电股份有限公司
发明人林传强
代理机构长沙七源专利代理事务所(普通合伙)代理人郑隽;周晓艳
摘要
本发明提供一种可提高光效的LED外延片生长方法,包括生长低温GaN成核层、生长高温GaN缓冲层、生长N型GaN层、生长多周期量子阱发光层、生长GaN:Mg层组、生长P型GaN接触层等步骤;GaN:Mg层组包括1‑80个GaN:Mg单层,GaN:Mg单层包括低温条件下生长的第一GaN:Mg层和高温条件下生长的第二GaN:Mg层。本发明还提供一种采用上述方法获得的可提高光效的LED外延片。本发明将传统的P型GaN层设计为高低温交替生长的GaN:Mg层组,通过低温生长,提高Mg浓度,提供较多空穴,又通过高温生长,提高材料的结晶质量,提高空穴迁移率,降低LED芯片的工作电压,提高LED芯片的发光效率。

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