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一种真空远区等离子体处理装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201310667716.2
  • IPC分类号:H01J37/32
  • 申请日期:
    2013-12-11
  • 申请人:
    苏州市奥普斯等离子体科技有限公司
著录项信息
专利名称一种真空远区等离子体处理装置
申请号CN201310667716.2申请日期2013-12-11
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2014-03-26公开/公告号CN103681199A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/32IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人苏州市奥普斯等离子体科技有限公司申请人地址
江苏省苏州市苏州高新技术产业开发区泰山路2号(博济科技园内) 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人苏州市奥普斯等离子体科技有限公司当前权利人苏州市奥普斯等离子体科技有限公司
发明人沈文凯;王红卫
代理机构苏州华博知识产权代理有限公司代理人孟宏伟
摘要
本发明涉及一种真空远区等离子体处理装置,包括反应腔、电极组件、等离子发生器和负压设备,反应腔包括放电腔和用于材料表面活化反应的处理腔,放电腔设置于处理腔上方并与处理腔连通,放电腔顶部设置有气体入口,处理腔底部设置有气体出口,电极组件设置于放电腔外表面,等离子发生器与电极组件电连接,负压设备与气体出口连接。本发明中负压设备将放电腔和处理腔中抽真空,等离子发生器驱动电极组件生成电场,反应气体从气体入口进入经过放电腔电离后进入处理腔中对材料表面进行活化反应,本实施例中材料远离电场环境,适用于绝缘材料和非绝缘材料,满足各种材料的处理需求,处理腔不受放电腔空间的限制,可满足不同面积的材料处理,更加方便。

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