光学系统内部腔室精密气体控制方法及其装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201210062634.0
IPC分类号：G05D16/04
申请日期：
2012-03-09
申请人：
上海微电子装备有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光学系统内部腔室精密气体控制方法及其装置
申请号	CN201210062634.0	申请日期	2012-03-09
法律状态	暂无	申报国家	中国
公开/公告日	2013-09-18	公开/公告号	CN103309369A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G05D16/04 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G05 控制；调节 G05D 非电变量的控制或调节系统（金属的连续铸造入B22D 11/16；阀门本身入F16K；非电变量的检测见G01各有关小类；电或磁变量的调节入G05F） G05D16/00 流体压力的控制 G05D16/04 无辅助动力	IPC分类号	G;0;5;D;1;6;/;0;4查看分类表>
申请人	上海微电子装备有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张东路1525号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司	当前权利人	上海微电子装备（集团）股份有限公司
发明人	聂宏飞;杨志斌;俞芸;李其涛;王云英
代理机构	上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	屈蘅;李时云

摘要

一种光学系统内部腔室精密气体控制装置，包括：光学系统；气体控制回路，所述气体控制回路采用控制参数解耦方法设计。一种光学系统内部腔室精密气体控制方法，包括气体控制回路控制参数解耦方法，具体为：给出控制参数集；对控制参数集进行敏感性分析；对控制参数集进行相对独立性分析；对控制参数进行初次分段；选择控制装置；判断控制装置可行性；若可行，气体控制回路构建完成；若不可行，进行二次分段；选择控制装置；判断每段控制装置可行性，若可行，气体控制回路构建完成；若不可行，再分段，直至可行。本发明可对气体回路进行多参数解耦；实现高倍降压；抑制二次污染；压力稳定性好；参数在线可调，以及结构简单，可靠性高，维护方便。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供