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半导体装置

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201820270365.X
  • IPC分类号:H01L23/485;H01L23/488
  • 申请日期:
    2018-02-26
  • 申请人:
    瑞萨电子株式会社
著录项信息
专利名称半导体装置
申请号CN201820270365.X申请日期2018-02-26
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L23/485IPC分类号H;0;1;L;2;3;/;4;8;5;;;H;0;1;L;2;3;/;4;8;8查看分类表>
申请人瑞萨电子株式会社申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人瑞萨电子株式会社当前权利人瑞萨电子株式会社
发明人萱岛祐治;关口智久
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人金春实
摘要
本公开涉及半导体装置,具有:半导体基板;第一布线;第二层间绝缘膜;第一焊盘;第一绝缘膜,具有第一开口部;第二布线;以及第二焊盘,其中,在俯视观察时,所述第一布线的至少一部分与所述第一焊盘重叠,所述第一布线的端部位于所述第一焊盘与所述第二布线的连接区域的下方,在所述第一布线中的第一区域形成有多个第二开口部,在俯视观察时,所述第一区域的至少一部分与所述连接区域重叠。本公开的一个实施例解决的一个问题是在形成焊盘后形成有再布线的半导体装置中提高可靠性。根据本公开的一个实施例的一个用途是能够提高半导体装置的可靠性。

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